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泉州靶材,尤特新材料-log1服務(wù),靶材采購
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泉州靶材,尤特新材料-log1服務(wù),靶材采購

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廣州市尤特新材料有限公司

廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè),以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點,順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向,深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力還獲得國家高新技術(shù)企業(yè)、廣州市民營科技企業(yè)、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、地方納稅先進單位、廣州市著1名商標等榮譽資質(zhì)。
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      廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè),以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點,順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向,深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力,經(jīng)過11年的開拓已發(fā)展成為擁有電子漿料(貴金屬鍍膜技術(shù))、金屬薄膜靶材(真空鍍膜靶材技術(shù))信息存儲記錄材料(激光讀寫光盤生產(chǎn)技術(shù))、工程塑料(PC再生造粒及改性技術(shù))、觸控顯示材料(手機、平板觸摸屏材料)、石墨烯材料(導電、散熱)、UV化工材料(UV油墨、UV電子膠粘劑)這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團。

靶材的主要性能要求

純度

   純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質(zhì)含量

   靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

   為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

   通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。


     廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè),以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點,順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向,深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力,經(jīng)過11年的開拓已發(fā)展成為擁有電子漿料(貴金屬鍍膜技術(shù))、金屬薄膜靶材(真空鍍膜靶材技術(shù))信息存儲記錄材料(激光讀寫光盤生產(chǎn)技術(shù))、工程塑料(PC再生造粒及改性技術(shù))、觸控顯示材料(手機、平板觸摸屏材料)、石墨烯材料(導電、散熱)、UV化工材料(UV油墨、UV電子膠粘劑)這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團。

      磁控濺射鍍膜是一種新型的物lq相鍍膜方式,2013年的蒸發(fā)鍍膜方式,其很多方面的優(yōu)勢相當明顯。作為一項已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù),磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。

     濺射技術(shù)。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。



     廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè),以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點,順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向,深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力,經(jīng)過11年的開拓已發(fā)展成為擁有電子漿料(貴金屬鍍膜技術(shù))、金屬薄膜靶材(真空鍍膜靶材技術(shù))信息存儲記錄材料(激光讀寫光盤生產(chǎn)技術(shù))、工程塑料(PC再生造粒及改性技術(shù))、觸控顯示材料(手機、平板觸摸屏材料)、石墨烯材料(導電、散熱)、UV化工材料(UV油墨、UV電子膠粘劑)這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團。

      鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光武1器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

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