廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè)，以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向，深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力，經(jīng)過11年的開拓已發(fā)展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術(shù)）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術(shù)）信息存儲記錄材料（激光讀寫光盤生產(chǎn)技術(shù)）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術(shù)）、觸控顯示材料（手機(jī)、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導(dǎo)電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團(tuán)。
目前，我國具備高純鋁生產(chǎn)能力的企業(yè)共7家，分別是新疆眾和、bao頭鋁業(yè)、霍煤鴻駿、山西關(guān)鋁、宜都東陽光鋁、中鋁貴州和神火鋁業(yè)。其中，bao頭鋁業(yè)和新建眾和都具有偏析法生產(chǎn)能力，其余幾家均采用三層電解法。相信隨著國內(nèi)生產(chǎn)工藝的發(fā)展，產(chǎn)品質(zhì)量的提高，高純鋁將是鋁工業(yè)發(fā)展的新方向。從高純鋁靶材的上游供應(yīng)情況來看，我國高純鋁產(chǎn)量并不高，也不能滿足國家高純鋁靶材生產(chǎn)所需。其余所需只能來源于進(jìn)口。 未來，我國將通過超高純鋁及鋁合金靶材制備加工過程中的關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)，全1面掌握應(yīng)用于大規(guī)模集成電路制造和TFT-LCD制造的大尺寸超高純鋁及鋁合金靶材的制備加工技術(shù);制備出滿足大規(guī)模集成電路制造用和TFT-LCD使用要求的超高純鋁及鋁合金靶材產(chǎn)品;為在我國形成一個從超高純鋁精煉提純到靶材加工的完整產(chǎn)業(yè)鏈提供關(guān)鍵技術(shù)支撐。隨著電子新材料行業(yè)的快速發(fā)展,以高純鋁為基礎(chǔ)的電子新材料產(chǎn)品(bao括靶材)需求將保持高速增長。國內(nèi)鋁電解電容器需求將以年均13-15%的速度增長。隨著我國存儲盤及半導(dǎo)體制品國產(chǎn)化，高純鋁靶材的需求量將會進(jìn)一步增加，市場前景廣闊。
廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè)，以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向，深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力，經(jīng)過11年的開拓已發(fā)展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術(shù)）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術(shù)）信息存儲記錄材料（激光讀寫光盤生產(chǎn)技術(shù)）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術(shù)）、觸控顯示材料（手機(jī)、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導(dǎo)電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團(tuán)。
靶材的主要性能要求
純度
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
廣州市尤特新材料有限公司是一家扎根于電子信息材料行業(yè)的高新技術(shù)企業(yè)，以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，順延產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的方向，深耕產(chǎn)業(yè)技術(shù)應(yīng)用的潛力，經(jīng)過11年的開拓已發(fā)展成為擁有電子漿料（貴金屬鍍膜技術(shù)）、金屬薄膜靶材（真空鍍膜靶材技術(shù)）信息存儲記錄材料（激光讀寫光盤生產(chǎn)技術(shù)）、工程塑料（PC再生造粒及改性技術(shù)）、觸控顯示材料（手機(jī)、平板觸摸屏材料）、石墨烯材料（導(dǎo)電、散熱）、UV化工材料（UV油墨、UV電子膠粘劑）這七大核心技術(shù)為中心的產(chǎn)業(yè)集團(tuán)。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物lq相鍍膜方式，2013年的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢相當(dāng)明顯。作為一項已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。
濺射技術(shù)。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
