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小型高溫蒸鍍儀
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小型高溫蒸鍍儀

小型高溫蒸鍍儀

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
鄭州高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號(hào)6幢11單元3層73號(hào)
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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及科學(xué)院校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)和信任的品牌。   公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會(huì)為宗旨,積極設(shè)計(jì)開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)專利10余項(xiàng),為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺(tái),為科探儀器了解市場需求提供了強(qiáng)有力的支持!

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小型高溫蒸鍍儀:

是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動(dòng)樣品擋板,靶臺(tái)旋轉(zhuǎn),觸摸屏多段控制,工藝儲(chǔ)存等功能。

空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程:(1)加熱蒸發(fā)過程:包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程,每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。

2)氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸,即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

3)蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā),凝聚,成核,核生長,形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度,因此,氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。

 

編輯

以下是不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖

 

原樣品沒有鍍膜

 

115A 100秒 機(jī)械泵

 

115A 100秒 分子泵抽12分鐘

 

115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

小型高溫蒸鍍儀 技術(shù)參數(shù)

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調(diào)整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1200W

輸出電壓電流

電壓≤12V 電流≤120A

真空度

機(jī)械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

≤1800℃

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口

可選配擴(kuò)展

機(jī)械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa

數(shù)顯真空計(jì)(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機(jī)組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa

 

鄭重聲明:產(chǎn)品 【小型高溫蒸鍍儀】由 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司 發(fā)布,版權(quán)歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)(企業(yè)庫www.nciecn.com)證實(shí),請(qǐng)讀者僅作參考,并請(qǐng)自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。若本文有侵犯到您的版權(quán), 請(qǐng)你提供相關(guān)證明及申請(qǐng)并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會(huì)盡快處理。
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