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靶材是制備薄膜的主要材料之一,比如鍍膜靶材,通過磁控濺射在適當的工藝條件下,濺射在基體上形成各種所需功能薄膜的濺射源,簡單來說靶材是高速荷能粒子轟擊的目標材料,通過更換不同的靶材得到不同的膜系,根據鍍膜工藝不同,對靶材種類選擇不同,屬于電鍍材料的一種。磁控濺射技術優(yōu)勢突出,推動濺射靶材需求不斷提升,濺射靶材已成為目前市場應用量大的 PVD 鍍膜材料。