碲化鉍靶材 三碲化二鉍靶材 相關信息由 成都阿爾法金屬材料有限公司提供。如需了解更詳細的 碲化鉍靶材 三碲化二鉍靶材 的信息,請點擊 http://www.nciecn.com/b2b/cdalfa.html 查看 成都阿爾法金屬材料有限公司 的詳細聯(lián)系方式。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物lq相鍍膜方式,濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。
項目 |
碲化鉍靶材(Bi2Te3)比例 |
純度 |
99.9%-99.999% |
尺寸 |
圓形:2-8英寸 方形:1000mm 可根據(jù)用戶需要進行定制 |
公差 |
±0.1mm |
用途 |
濺射鍍膜 蒸發(fā)鍍膜 實驗或研究級別 |
產品優(yōu)勢 |
純度高,雜質少,相對致密度高,晶粒均勻,一致性高 |
產品附件 |
正式報價單/購銷合同/裝箱單/檢測單 |
包裝說明 |
國內快遞承運 |
服務 |
提供免費樣品&材料應用解決方案 |