小型蒸鍍儀(Small-size Thermal Evaporation System)是一種利用高溫蒸發(fā)技術(shù)制備薄膜的設(shè)備,也被稱為真空蒸發(fā)沉積設(shè)備。該設(shè)備主要由蒸發(fā)源、真空室、控制系統(tǒng)和抽氣系統(tǒng)等主要組件組成。
蒸發(fā)源是將待蒸發(fā)材料固體化為塊狀,通過高溫蒸發(fā)制備薄膜的重要組件。通常使用的蒸發(fā)源材料包括金屬材料、氧化物、硅等材料,其形狀可以是塊狀、線狀、板狀等。
真空室是制備薄膜時的反應(yīng)室,通過泵抽氣將室內(nèi)氧氣、水蒸氣等揮發(fā)性雜質(zhì)排出,以便保持真空環(huán)境??刂葡到y(tǒng)用于控制溫度、氣壓、蒸發(fā)速率和薄膜厚度等參數(shù),確保薄膜制備的準(zhǔn)確 性。抽氣系統(tǒng)則用于控制和維持真空環(huán)境。
小型蒸鍍儀通常用于實驗室或小批量生產(chǎn),可以制備純凈、均勻和厚度可控的薄膜。它廣泛應(yīng)用于電子器件、光學(xué)器件、納米材料制備等領(lǐng)域。同時,因為蒸鍍過程簡單、成本低廉,因此小型蒸鍍儀也被稱為最具經(jīng)濟(jì)性的薄膜制備設(shè)備之一。