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KRI 線性霍爾 eH Linear
上海伯東代理美國原裝進(jìn)口 KRI 線性使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離長度高達(dá) 1 米, 通過嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性使用標(biāo)準(zhǔn)的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉(zhuǎn)濺射系統(tǒng).
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
KRI 霍爾 eH Linear 技術(shù)參數(shù)
型號 |
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
供電 |
DC magnetic confinement |
- 電壓 |
40-200V VDC |
- 陽極結(jié)構(gòu) |
模塊化 |
電源控制 |
eHL-30010A |
配置 |
- |
- 陰極中和器 |
Filamentless |
- 離子束發(fā)散角度 |
> 45° (hwhm) |
- 陽極 |
標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved |
- 底座 |
移動或快接法蘭 |
- 高度 |
10 cm |
寬度 |
10 cm |
- 長度 |
~ 100cm |
-工藝氣體 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
Model |
eHL 200-3 |
eHL 200-5 |
Height (nominal) |
2.9” (7.4cm) |
2.9” (7.4cm) |
Width (nominal) |
3.3” (8.4cm) |
3.3” (8.4cm) |
Length (nominal) |
Determined by number of modules & application |
Determined by number of modules & application |
Cathode/Neutralizer |
Yes |
Yes |
Anode module |
Yes |
Yes |
Filamentless |
Yes |
Yes |
Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
Process gases |
Inert, reactive, & organic |
Inert, reactive, & organic |
Power controller |
eH Plasma Power Pack |
eH Plasma Power Pack |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn), 和. 美國歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國中國總代理.
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