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等離子體源微波頭銷售
等離子體源微波頭銷售

等離子體源微波頭銷售

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王少鵬(經理)
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欣源科技(北京)有限公司
010-57278698
北京市海淀區(qū)信息路甲28號D座06A-6331
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欣源科技(北京)有限公司

.欣源科技(北京)///壓電薄膜激光干涉儀系統(tǒng)-電子束焊接-欣源科技(北京)有限公司

欣源科技(北京)有限公司,專門致力于把先進的科學儀器和研究測試設備引進到國內科研及工業(yè)領域。
我們代理諸多世界{yl}的分析測試儀器與材料制備設備,為廣大用提專業(yè)化的技術咨詢及售后服,主要產品有: 

鐵電壓電材料分析設備:
鐵電分析儀(鐵電測試儀、TF2000E/TF3000、TF nalyzer 2000E/TF nalyzer 3000、極化測量儀)/壓電分析儀(壓電測試儀)/釋電分析儀(釋電測試儀),壓電材料綜合表征系統(tǒng)aixPES、多鐵材料磁電磁阻測試儀aixPES-MR、高低溫塊壓電分析儀aixPES-600/800、電卡效應測試儀ECM、激發(fā)極化電流測試儀TSDC、超薄薄膜壓電雙光束激光干涉儀aixDBLI、陶瓷多層執(zhí)行器測試儀(aixCM、陶瓷多層驅動器測試儀、陶瓷多層電容器測試儀),機電薄膜e31測試儀aix4PB、阻變式存儲器測試儀RRM、鐵電遲豫電流測試儀aixPES-RX、鐵電自放電測試儀aixPES-DR、鐵電隨機存儲器測試儀FeRM、電性能測試儀COMTESSE(塞貝克系數(shù)測試儀)。

電子束能量分布測試制備:
電子束能量分布測試儀diaBEM。

儲氫材料測試設備:
儲氫材料測試儀(貯氫材料測試儀、PCT測試儀、壓力組分溫度測試儀)。

微納米加工制備:
電子束光刻(電子束曝光、電子束直寫、EBL、E-Beam Lithography)、超高分辨率電子束光刻(EBL-UH)。

微波/射頻等離子相關設備:
微波發(fā)生器(微波電源)2.45GHz系列、微波發(fā)生器(微波電源)915MHz系列、等離子源(Plasma Sources、微波頭)、微波化學系列Microwave Chemistry、射頻發(fā)生器(RF發(fā)生器、射頻電源)、用于等離子的直流電源DC系列、微波等離子專用水冷機系列、微波等離子增強化學氣相沉積(MPECVD/MPCVD)。

我們本著“科技與時俱進、服以為本”的服理念,將不斷地為廣大客提針對性的優(yōu)質服,為中國科技的引進吸收到自主創(chuàng)的跨、建設{yl}科技強國作出貢獻。

我們誠歡迎國內外先進的儀器制造商、科學工作者、區(qū)域代理商等與我們聯(lián)系開展廣泛的合作!
等離子源微波頭銷售
Plasma Sources 等離子源系列
法SIREM公司是擁有40多年的微波和射頻工程經驗的高科技公司,可為用定制電子設計、應用開、工藝設計和生產標準化的微波、射頻、直流生器、等離子源等相關產品。
微波技術在等離子實驗室和工業(yè)中不斷新的應用,這是由于微波等離子的許多優(yōu)點,例如,超密度等離子-離子和活物種,電極更少,在各種壓力下的操作。微波輔助等離子在金剛石沉積、表面活化、菌、納米材料合成、氣凈化等方面的應用。
為了滿足這些復雜技術要求的越來越苛刻的要求,我們已經開出了自己的等離子源和應器。
我們可以提關于選擇等離子設備和適合你需要的微波頻率的建議,還可根據(jù)要求提特殊配置,并且樂于幫助開您自己應用的設備。
要應用領域:
分析
金剛石沉積
表面清洗
蝕刻
防止污染
化學合成
(301)Downstream 等離子源
這種表面波的等離子源產生等離子,在個標準的WR340波導中(直徑20-60毫米)。這種等離子源可以根據(jù)壓力、微波功率和等離子氣的質,使長等離子的點火和維持。
壓力范圍:10-2mbar到大氣壓力
氣類型:r,N2,O2,空氣,……
{zd0}功率:6kW
應用類型:自由基/應物種的產生,表面jh,PECVD,氣減排,氣化,mj(UV),納米粒子合成
(302)Sur-fa-guide 等離子源
壓力范圍:mbar到atm
要用于:氣減排、氣化、mj、納米粉合成、表面活化、大氣高溫化學
(303)UR W--V-E 同軸ECR等離子源(低壓等離子)
KF/CF法蘭,橡膠密封圈/無氧銅密封圈,搭配固態(tài)微波生器,可組成陣列
(304)HI- W--V-E 同軸碰撞型等離子源(中壓等離子)
KF/CF法蘭,橡膠密封圈/無氧銅密封圈,搭配固態(tài)微波生器,可組成陣列
(305)S- W--V-E等離子源(Sur-face  W--V-E plasma source 表面波等離子源,搭配固態(tài)微波生器),要特點:
頻率2450MHz±50MHz
{zd0}微波功率200W
集成到DBD點火系統(tǒng)(Dielectric Barrier Discharge介質阻擋放電點火系統(tǒng))
壓力范圍10-2mbar到大氣壓
r和基于r基混合物可在1atm下使用
有氣都可在更低壓力下使用
直徑6或8毫米的電介質管
Swagelok 6mm氣連接器
要應用領域:表面活化、元素分析、原子層沉積、氣減排、分子jh/物質活化、菌消、減少xj附著、慢傷口和受感染皮膚的zl

.欣源科技(北京)___等離子體源微波頭銷售
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