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真空退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計(jì)的。退火爐可以加熱晶片以jh摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,退火爐可以改變生長的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。
退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計(jì)的設(shè)備完成的。
真空熱處理爐分為退火爐、淬火爐、回火爐、正火爐、調(diào)質(zhì)爐,主要用于大型碳鋼、合金鋼零件的退火;表面淬火件回火;焊件xc應(yīng)力退火、時效等熱處理工藝。加熱方式一般可分為電加熱、燃油、燃?xì)?、燃煤、熱風(fēng)循環(huán)。退火爐是當(dāng)前一種新型換熱設(shè)備。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐,超節(jié)能結(jié)構(gòu),節(jié)電效果好。
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