磁控蒸發(fā)兩用鍍膜設(shè)備 相關(guān)信息由 東莞市匯成真空科技有限公司提供。如需了解更詳細(xì)的 磁控蒸發(fā)兩用鍍膜設(shè)備 的信息,請(qǐng)點(diǎn)擊 http://www.nciecn.com/b2b/helene.html 查看 東莞市匯成真空科技有限公司 的詳細(xì)聯(lián)系方式。
磁控蒸發(fā)兩用鍍膜設(shè)備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子(靶材)離化沉積在基材上(物lq相沉積PVD)和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化,對(duì)基材、手機(jī)殼等塑料表面進(jìn)行金屬化、利用特定薄膜涂層實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品不導(dǎo)電和電磁的作用,以滿足現(xiàn)行手機(jī)的gd電子產(chǎn)品制造行業(yè)標(biāo)準(zhǔn);
設(shè)備集中了等離子體處理,gd陰極磁控濺射,、電阻蒸發(fā)鍍膜裝置,大裝載量轉(zhuǎn)架和自動(dòng)化控制技術(shù),工作可靠、重復(fù)性一致性良好、沉積速率高快,附著力好,膜層品質(zhì)細(xì)膩等,鍍制的薄膜致密硬度高,磨擦系數(shù)低,可保持原有工件表面光潔,具有韌性好,不易破裂脫落。設(shè)備實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進(jìn)行涂層,具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品合格率高、綠色環(huán)保等特點(diǎn),主要適用于電腦、手機(jī)、gd工業(yè)(家用)電子電器、航空等領(lǐng)域,,可鍍制復(fù)合金屬膜、合金膜、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、電磁膜及特殊膜層等。
型號(hào) 真空室尺寸 |
JLZ-1000 | JTZ-1200 | JTZ-1400 | JTZ1400 |
¢1000×1000MM | ¢1200×1400MM | ¢1400×1600MM | ¢1400×1900MM | |
制膜種類 | 金屬膜、半透明膜、不導(dǎo)電膜、電磁膜、介質(zhì)膜等 | |||
電源類型 | 電阻蒸發(fā)電源、直流磁控電源、射頻電源 | |||
濺射及電極結(jié)構(gòu) | 圓柱磁控靶、平面矩形靶、孿生靶、蒸發(fā)電極 | |||
真空室結(jié)構(gòu) | 立式雙開門、立式單開門、后置抽氣系統(tǒng)/臥式單開門、側(cè)置抽氣系統(tǒng) | |||
極限真空 | 4.0×10-4PA | |||
真空系統(tǒng)組成 | 擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵+維持泵 | |||
抽氣時(shí)間 | 從大氣抽至8.5×10-3PA,小于或等于15分鐘 | |||
工件運(yùn)動(dòng)方式 | 公自轉(zhuǎn)/變頻調(diào)速 | |||
控制方式 | 手動(dòng)/自動(dòng)一體化式,觸摸屏+PLC | |||
備注 | 以上設(shè)備可按客戶實(shí)際及特殊工藝要求設(shè)計(jì)訂做 |