搜產(chǎn)品
搜企業(yè)
客服電話:400-000-8722
上海伯東美國 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實現(xiàn)小規(guī)模試驗中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, 確保樣品表面清潔無污染, 滿足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制備.
KDC 40 預(yù)清潔可以實現(xiàn)
去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留
去除化學(xué)吸附污染: 去除天 然和粘合材料. 如表面氧化物, 通常去除 < 100?
提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.
數(shù)據(jù)來源: 美國 KRi 原廠資料
KDC 40 技術(shù)參數(shù)
上海伯東美國 KRi 小型低成本 KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層?xùn)艠O. 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 提供低濃度高能量寬束型離子束.
KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 65 至 1200ev, 離子電流可以超過 140 mA.
|
型號 |
KDC 40 |
|
陽極 |
DC 直流 |
|
陽極功率 |
100W |
|
最 大離子束流 |
>100mA |
|
電壓 |
100-1200V |
|
氣體 |
惰性和反應(yīng)氣體 |
|
進氣流量 |
2-10sccm |
|
壓力 |
<0.5m Torr |
|
離子光學(xué)(自對準) |
OptiBeamTM |
|
離子束直徑 |
4cm Φ max |
|
柵極 |
鉬和石墨 |
|
離子束形狀 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
高度 |
16cm |
|
直徑 |
9cm |
上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的, , 等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn), 和. 美國歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!