真空鍍膜和涂層技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用解說：鍍鈦工藝處理溫度可控制在150～500℃以下，因此鍍鈦工藝可用于多種材質(zhì)基體的涂層，不僅具有多姿多彩的裝飾效果，更重要的是采用PVD技術(shù)可使涂層具有優(yōu)異的理化特性，大幅度強(qiáng)化基體表面諸如硬度、摩擦系數(shù)等物理特性指標(biāo)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較高級的五金制品上，對那些價格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm ～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ～1μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。
PVD鍍膜技術(shù)的特點：
1、膜層與物件表面的結(jié)合力強(qiáng)，保色更加持久，耐磨性強(qiáng)
2、離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的物件
3、膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高
4、可鍍膜層顏色種類廣泛
5、穩(wěn)定性高、環(huán)保
PVD鍍膜的整個工藝流程：QA品檢—上掛—清洗—烘烤—電鍍—出爐—下架—全檢
PVD鍍鉻技術(shù)的優(yōu)勢
1. wq無污染的生產(chǎn)工藝過程
在涂層前處理中，采用環(huán)保型的金屬清洗劑對工件表面進(jìn)行去油和脫脂處理，烘干后工件放入真空室中進(jìn)行PVD鍍鉻處理。鍍鉻過程以高純金屬鉻為原料，通入氮氣和氬氣等瓶裝氣體，在沉積鉻復(fù)合涂層的專用設(shè)備中，采用先進(jìn)的等離子體源輔助電弧-濺射等先進(jìn)技術(shù)，通過電場、磁場、等離子體和離子束流的作用，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，實現(xiàn)了鉻復(fù)合涂層的生成。使用的原材料價廉易得，國內(nèi)可以大量供應(yīng)。在整個工藝生產(chǎn)過程中，沒有采用rh有毒有害的原料，是wq無污染的綠色環(huán)保生產(chǎn)技術(shù)。
