焦爐煤氣氧在線分析儀
關于電捕焦油器前后需不需要裝氧控儀的問題

對于，焦爐，高爐，轉爐，發(fā)生爐煤氣等而言：
5．1．3．10電捕焦油器應符合下列規(guī)定：
——電捕焦油器入口和洗滌塔后應設隔斷裝置；
——電捕焦油器應設泄爆裝置，并應定期檢查；
——電捕焦油器應設當下列情況之一發(fā)生時能及時切斷電源的裝置：
煤氣含氧量達1％；
煤氣壓力低于50Pa(5.1mmH2O)；
絕緣保溫箱的溫度低于規(guī)定(一般不低于煤氣入口溫度加25℃)；
——電捕焦油器應設放散管、蒸汽管；
——電捕焦油器底部應設保溫或加熱裝置；
——電捕焦油器沉淀管問應設帶閥門的連接管；
——抽氣機出口與電捕焦油器之間宜設避震器。
而對于焦爐煤氣而言：
——電捕焦油器應遵守本規(guī)程5．1．3．10的有關規(guī)定。但電捕焦油器設在抽氣機前時，煤氣入口壓力允許負壓，可不設泄爆裝置。在鼓風機后，應設泄爆裝置，設自動的連續(xù)式氧含量分析儀，煤氣含氧量達1％時報警，達2％時切斷電源。
技術參數和說明：
技術參數：（焦爐煤氣電捕焦器現場采樣分析點工況）
取樣點位置：焦爐煤氣電捕焦器出口
分析參數： O2（可選擇分析原理：電化學，磁氧或者激光分析儀，其價格有較大差異）
測量范圍： O2：0-2%（當達到1%O2輸出報警節(jié)點信號，自由設定）
被測煤氣溫度：40～60℃
含塵量：微量
含水量：中等
含焦油量：少量
其他腐蝕成份（S O2）：少量
結晶物（萘）：少量
管道壓力：微正壓
產品詳細信息
分析柜組件及裝置技術參數：由前處理單元、供電單元、分析校對單元組成。 （1）前處理單元包括： 專用過濾器組件（除奈、焦油）、氣液分離器、cs器、抽氣泵（進口部件）、精除硫管、流量調節(jié)器、等。通過粗、細三級過濾和分離、吸收粉塵、焦油、奈、酸霧、冷卻cs水份的綜合凈化處理，提供分析儀器超凈的分析氣源。 （2）供電及控制單元包括： 電源控制盤（包括高性能空氣開關、接線端子、）、輸出故障報警接點信號；具有數據采集、自動處理氧氣成份含量越限報警功能?？刂浦袠蠵LC、二位三通電磁閥等。                                  （3）分析單元包括： JNYQ－O－11C型氧量分析儀（進口傳感器）、流量計、流路切換閥、標準樣氣等。 （4）越限報警功能： 分析儀對凈化后的煤氣樣品進行連續(xù)在線分析，輸出4-20mA信號和無源觸電信號。若氧濃度越限時，裝置立即輸出報警接點信號（無源接點，容量1A），確保電捕焦器設備安全運行。 （5）測量范圍及分析精度： 測量對象及量程：   0-2% O2    精    度：≤±1%F.S   線性誤差: ≤±1%F.S 裝置系統響應時間：T90＜15S （6）信號輸出： 現場所大屏液晶數字顯示O2含量并以 4—20mA成份信號隔離輸出給上位機或DCS。超限報警、聯鎖、故障報警信號輸出及容量： 氧濃度越限報警值在儀表量程范圍內分別可設定（出廠時設定濃度報警值：0.80%,O2）報警信號輸出無源接點，容量：220VAC，1A （7）裝置預處理功能 不銹鋼取樣探頭、三級除塵、除硫、除萘、除焦油、除酸霧、除水份、穩(wěn)壓、穩(wěn)流、快速放散、粉塵凈化精度≤0.1u （8）裝置維護周期：≥30天 三、設計方案及配置說明 1、配置原則： 本分析裝置中的重要關鍵部件（如：抽氣泵、傳感器、PLC等）采用原裝進口，其它能夠長期保證使用的關鍵、主要和一般性部件則采用國內合資企業(yè)和本廠生產制造的，盡量減少后期維護的運行成本。 2、本分析裝置主要技術特點如下： 本裝置是按“交鑰匙式”工程設計。裝置除取樣器外和專用過濾器組件，樣氣的預處理單元、供電單元和分析校對單元均置于分析柜內，出廠前已調試完畢。現場只需用戶安裝探頭、輔設取樣線、外圍電源和分析柜就位即可。到時供方來技術人員到現場指導按裝和調試。 3、分析柜按國家標準制作，開有觀察大窗方便操作者巡視和維護。。 4、系統全干法流程，對分析組分不會有影響取樣器、取樣管，各類管接頭（與樣氣接觸部分）、抽氣泵均為防腐設計。泵等均采用防腐不銹鋼、聚四氟乙烯材料或特殊防腐處理，提高了系統防腐性。保證了系統使用壽命。 5、采用自動cs器，具有使用壽命長，維護工作量小，cs效果穩(wěn)定等特點，樣氣中的殘余水汽將得到徹底qc，從而達到干燥樣氣的目的，避免了水汽對儀器的干擾。
特點和優(yōu)勢：
1）不受背景氣體的影響（2）不受粉塵與視窗污染的影響（3）自動修正溫度，壓力對測量的影響
產品詳細信息（激光氧分析儀）
  一、半導體激光光譜吸收技術基本原理
半導體激光光譜吸收技術（diode laser absorption spectroscopy,DLAS）最早于20世紀70年代提出。初期的DLAS技術只是一種實驗室研究用技術，隨著半導體激光技術在20世紀80年代的迅速發(fā)展，DLAS技術開始被推廣應用于大氣研究、環(huán)境監(jiān)測、醫(yī)療診斷和航空航天等領域。特別是20世紀90年代以來，基于DLAS技術的現場在線分析儀表已逐漸發(fā)展成為熟，與非色散紅外、電化學、色譜等傳統工業(yè)過程分析儀表相比，具有可以實現現場原位測量、無需采樣和預處理系統、測量準確、響應迅速、維護工作量小等顯著優(yōu)勢，在工業(yè)過程分析和污染源監(jiān)測領域發(fā)揮著越來越重要的作用。
1.朗伯-比爾定律
DLAS技術本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術是一種高分辨率的光譜吸收技術，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述
 
式中，IV,0 和IV 分別表示頻率V的激光入射時和經過壓力P，濃度X和光程L的氣體后的光強；S（T）表示氣體吸收譜線的強度；線性函數g（v-v0）表征該吸收譜線的形狀。通常情況下氣體的吸收較小，可用式（4-2）來近似表達氣體的吸收。這些關系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。
2.光譜線的線強
氣體分子的吸收總是和分子內部從低能態(tài)到高能態(tài)的能級躍遷相聯系的。線強S（T）反映了躍遷過程中受激吸收、受激輻射和自發(fā)輻射之間強度的凈效果，是吸收光譜譜線最基本的屬性，由能級間躍遷概率經及處于上下能級的分子數目決定。分子在不同能級之間的分布受溫度的影響，因此光譜線的線強也與溫度相關。如果知道參考線強S（T0），其他溫度下的線強可以由下式求出
 
式中，Q（T）為分子的配分函數；h為普朗克常數；c為光速；k為波爾茲曼常數；En
為下能級能量。各種氣體的吸收譜線的線強S（T0）可以查閱相關的光譜數據庫。
 
二、測量技術和特點
1.調制光譜檢測技術
調制光譜檢測技術是一種被最廣泛應用的可以獲得較高檢測靈敏度的DLAS技術。它通過快速調制激光頻率使其掃過被測氣體吸收譜線的定頻率范圍，然后采用相敏檢測技術測量被氣體吸收后透射譜線中的諧波分量來分析氣體的吸收情況。調制類方案有外調制和內調制兩種，外調制方案通過在半導體激光器外使用電光調制器等來實現激光頻率的調制，內調制方案則通過直接改變半導體激光器的注入工作電流來實現激光頻率的調制。由于使用的方便性，內調制方案得到更為廣泛的應用，下面簡單描述其測量原理。
在激光頻率 掃描過氣體吸收譜線的同時，以一較高頻率正弦調制激光工作電流來調制激光頻率，瞬時激光頻率 可表示為
 
式中， （t）表示激光頻率的低頻掃描；a是正弦調制產生的頻率變化幅度；w為正弦調制頻率。透射光強可以被表達為下述Fourier級數的形式。
 
令 等于 ，則可按下式獲得n階Fourier諧波分量
 
諧波分量 可以使用相敏（PSD）來檢測。調制光譜技術通過高頻調制來顯著降低激光光器噪聲（1/f噪聲）對測量的影響，同時可以通過給PSD設置較大的時間常數來獲得很窄帶寬的帶通濾波器，從而有效壓縮噪聲帶寬。因此，調制光譜技術可以獲得較好的檢測靈敏度。
3.技術特點和優(yōu)勢
（1）不受背景氣體的影響
傳統非色散紅外光譜吸收技術采用的光源譜帶很寬，其譜寬范圍內除了被測氣體的吸收譜線外，還有很多基他背景氣體的吸收譜線。因此，光原發(fā)出的光除了被待測氣體的多條吸收譜線吸收外還被一些背景氣體的吸收譜線吸收，從而導致測量的不準確性。
而半導體激光吸收光譜技術中使用的半導體激光的譜寬小于0.0001nm，為上述紅外光源譜寬的1/106，遠小于被測氣體一條吸收譜線的譜寬。DLAS氣體濃度分析儀首先選擇被測氣體位于待定頻率的某一吸收譜線，通過調制激光器的工作電流使激光波長掃描過該吸收譜線，從而獲得如圖3所示的“單線吸收光譜”數據。
在選擇該吸收譜線時，就保證在所選吸收譜線頻率附近約10倍譜線寬度范圍內無測量環(huán)境中背景氣體組分的吸收譜線，從而避免這些背景氣體組分對被測氣體的交叉吸收干擾，保證測量的準確性（例如圖3中位于6408cm-1 頻率處的CO吸收譜線附近無H2O吸收譜線，從而測理環(huán)境中水分不會對CO的測量產生干擾）。
（2）不受粉塵與視窗污染的影響
氣體的濃度由透射光強的二次諧波信號與直流信號的比值來決定。當激光傳輸光路中的粉塵或視窗污染產生光強衰減時，兩信號會等比例下降，從而保持比值不變。因此過程氣體中的粉塵和視窗污染對于儀器的測量結果沒有影響。實驗結果表明即使粉塵和視窗污染導致光透過率下降到1%，儀器示值誤差仍不超過3%。
（3）自動修正溫度，壓力對測量的影響
一些工業(yè)過程氣體可能存在幾百攝氏度的溫度變化和幾個大氣壓的壓力變化。氣體溫度和壓力的變化會導致二次諧波信號波形的幅值與形狀發(fā)生相應的變化，從而影響測量的準確性。
為了解決這個問題，DLAS技術中可增加溫度、壓力補償算法，只要將外部傳感器測得的氣體溫度，壓力信號輸入補償算法中，DLAS氣體濃度分析儀就能自動修正溫度、壓力變化對氣體濃度測量的影響，保證了測量的準確性。
 
JNYQ-G-8X激光氣體在線分析儀用來進行連續(xù)工業(yè)過程和氣體排放測量,適合于惡劣工業(yè)環(huán)境應用，如鋼鐵各種燃爐、鋁業(yè)和有色金屬、化工、石化、水泥、發(fā)電和垃圾焚燒等。
特征
高分辨率（激光掃描頻率是傳統激光分析儀的幾倍）
模塊化設計，可現場模塊化替換，快速維護和維修
高光穿透能力，適合于高粉塵阻擋環(huán)境應用
專利性航空動力學原理插入管，適合于特高粉塵阻擋環(huán)境應用
無交叉干擾
無需采樣，現場在線直接測量
快速測量（響應時間可低于1秒）
結構緊湊、堅固耐用
JNYQ-G-8X為系列產品,根據應用要求不同,主要有以下幾種組態(tài)型號：
JNYQ-G-81（原位型）
　　激光原位測量，響應速度快，測量精度高
　　集成式正壓防爆設計，安全可靠
　　模塊化設計，可現場更換所有功能模塊，維護方便
　　智能化程度高、操作方便
JNYQ-G-82（旁路型）
　　激光旁路測量，測量精度高，抗干擾能力強
　　光學非接觸測量，可直接測量高溫、強腐蝕性氣體
　　旁路處理裝置簡單、可靠，可直接安裝在過程管道處
　　全系統防爆，支持氣體溫度、壓力自動補償
JNYQ-G-83（分布型）
　　分布式激光測量，支持八個測量通道，高xjb
　　測量通道獨立激光測量模塊，可靠性高
　　網絡化集中顯示和控制，監(jiān)控方便

1、         氧分析儀的選型
選型一、（進口日本費加羅電化學原理傳感器）
技術參數：
◆. 測量范圍： 0.00～25%O2 （量程可選）
◆. 精    度：≤±2％F.S；
◆.　穩(wěn) 定 性：零點漂移≤±1％F.S/7d；
量程漂移≤±1％F.S/7d；
◆.　重 復 性：≤±1％；

中心單片機

◆. 分 辨 率：0.01% ；
◆.　觸點容量：220VAC，1A   24VDC，1A；
◆.　輸出信號：4～20mA；
◆.　工作環(huán)境：溫度：－5℃～＋45℃；
        濕度：≤90%RH；
◆. 工作電源：220VAC±10%，50Hz±5%；
◆. 使用壽命：3年
◆.　重    量：約4.6kg;
選型二、（原裝進口西門子磁壓式分析儀，需要參比氣）
技術參數：
◆. 測量范圍： 0.000～2/25/50/{bfb}O2 （量程可選）
◆. 精    度：≤±1％F.S；
◆.　穩(wěn) 定 性：零點漂移≤±1％F.S/7d；
量程漂移≤±1％F.S/7d；
◆.　重 復 性：≤±1％；

中心單片機
 
◆. 分 辨 率：0.001% ；
◆.　觸點容量：220VAC，1A   24VDC，1A；
◆.　輸出信號：4～20mA；
◆.　工作環(huán)境：溫度：－5℃～＋45℃；
        濕度：≤90%RH；
◆. 工作電源：220VAC±10%，50Hz±5%；
◆. 使用壽命：5年
◆.　重    量：7.6kg;
選型三、（原裝進口芬蘭激光分析儀）
技術參數：
◆. 測量范圍： 0.00～5%O2
◆. 精    度：≤±1％F.S；
◆.　穩(wěn) 定 性：零點漂移≤±1％F.S/7d；
量程漂移≤±1％F.S/7d；
◆.　重 復 性：≤±1％；

中心單片機
◆. 分 辨 率：0.01% ；
◆.　觸點容量：220VAC，1A   24VDC，1A；
◆.　輸出信號：4～20mA；
◆.　工作環(huán)境：溫度：－5℃～＋45℃；
        濕度：≤90%RH；
◆. 工作電源：220VAC±10%，50Hz±5%；
◆. 使用壽命：10年
◆.　重    量：5.6kg;

聯 系 人：張兵 
聯系電話：18729395215  
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