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納米二氧化硅拋光液研磨液SiO2
13305631332, 13305631650,Qq:1830343958
我公司系列二氧化硅拋光液產(chǎn)品均是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度二氧化硅拋光液,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點(diǎn):具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。
技術(shù)指標(biāo):
型號 |
外觀 |
粒徑 |
含量 |
溶劑 |
應(yīng)用 |
VK-SP10W |
白色乳液 |
10nm |
30% |
水 |
精密拋光 |
VK-SP20W |
白色乳液 |
20nm |
30% |
水 |
精密拋光 |
VK-SP30W |
白色乳液 |
30nm |
30% |
水 |
精密拋光 |
VK-SP50W |
白色乳液 |
50nm |
30% |
水 |
精密拋光 |
VK-Sp10E |
白色乳液 |
10nm |
20% |
乙二醇 |
精密拋光 |
VK-SP30E |
白色乳液 |
30nm |
20% |
乙二醇 |
精密拋光 |
VK-SP50E |
白色乳液 |
50nm |
20% |
乙二醇 |
精密拋光 |
包裝:25kg/桶