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高精度半自動光刻機(jī) 北京特博萬德科技有限公司

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能力	數(shù)值
X, Y方向運(yùn)動距離，精度	+/-6mm； 0.1微米
Z方向精度	+/-0.5微米
Theta; 精度	+/-3°；0.001°
光罩旋轉(zhuǎn)	+/-15°
控制方式	軟件控制，多種工藝參數(shù)可自行設(shè)定
卡盤移動控制	電子桿
光刻模式	靠近、軟接、硬接和真空接觸
預(yù)對準(zhǔn)能力	X,Y方向+/-25微米；Theta 0.5°
精對準(zhǔn)能力	小于1微米
光罩尺寸	{zd0} 14”×14”
適用的樣品尺寸	50 ～ 300mm
光源選擇	近紫外，中紫外和深紫外

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