惡臭氣體（工業(yè)廢氣）UV{gx}光解凈化設(shè)備產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品技術(shù)原理
一、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解惡臭氣體物質(zhì)如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。
二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的qc效果。
三、惡臭氣體（工業(yè)廢氣）利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中xj的分子鍵，破壞xj的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅xj的目的。
五、設(shè)備適用范圍：采油（氣）田、污水處理廠、垃圾處理場、煉油廠、塑料廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、印染廠等惡臭氣體的脫臭凈化處理。發(fā)明專利號：ZL 200710075448.X 實用新型專利號：ZL 200920206306.7。
